刻蚀机和光刻机的区别
2024-03-22 06:33:19
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1、工艺不同:刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上;2、难度不同:光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
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1、工艺不同:刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上;2、难度不同:光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
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